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公司基本資料信息
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產(chǎn)品詳細(xì)說明
美國(guó)ACM RESEARCH 無應(yīng)力拋光設(shè)備
主要優(yōu)勢(shì)
工藝過程低應(yīng)力
低耗材成本COC和運(yùn)營(yíng)成本COO
低排放可保護(hù)環(huán)境
特性和規(guī)格
整合了無應(yīng)力拋光、化學(xué)機(jī)械研磨、濕法刻蝕、干法刻蝕工藝
電拋光液和濕法刻蝕液可實(shí)時(shí)循環(huán)使用
減少化學(xué)和耗材使用量
設(shè)備尺寸（mm）：4100(長(zhǎng))*2600(寬)*2650(高)
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